氧化亞硅真空升華爐

適用于氧化亞硅等可氣相沉積材料大批量生產(chǎn)；溫差控制精度高，高溫真空爐；具備高真空升華，反應(yīng)，脫脂，脫水，氣相沉積材料自動研磨刮料，爐內(nèi)收集等特殊工藝能力。設(shè)備特點：一次裝料量大，生產(chǎn)效率高。全程全封閉全自動化作業(yè)，避免粉塵飛揚，生產(chǎn)現(xiàn)場環(huán)境整潔..

產(chǎn)品優(yōu)勢產(chǎn)品規(guī)格

適用于氧化亞硅等可氣相沉積材料大批量生產(chǎn)；溫差控制精度高，高溫真空爐；具備高真空升華，反應(yīng)，脫脂，脫水，氣相沉積材料自動研磨刮料，爐內(nèi)收集等特殊工藝能力。

設(shè)備特點：

一次裝料量大，生產(chǎn)效率高。
全程全封閉全自動化作業(yè)，避免粉塵飛揚，生產(chǎn)現(xiàn)場環(huán)境整潔干凈。
溫度控制1500度以內(nèi)，升溫速率快。

可以在真空度下保持穩(wěn)定運行工作。

設(shè)備參數(shù)：